Thèse soutenue

Interactions entre défauts étendus et anomalies de diffusion des dopants dans le silicium : modèle physique et simulations prédictives

FR
Auteur / Autrice : Benjamin Colombeau
Direction : Alain Claverie
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Matériaux, technologies et composants de l'électronique
Date : Soutenance en 2001
Etablissement(s) : Toulouse 3