Interactions entre défauts étendus et anomalies de diffusion des dopants dans le silicium : modèle physique et simulations prédictives
FR
Auteur / Autrice : | Benjamin Colombeau |
Direction : | Alain Claverie |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Matériaux, technologies et composants de l'électronique |
Date : | Soutenance en 2001 |
Etablissement(s) : | Toulouse 3 |