Etude de l'ablation par laser a excimeres de cibles constituees d'elements de la colonne iv : applications aux depots en couche mince de compose silicium-germanium et de carbone amorphe

Study of the excimer laser ablation of silicon, germanium and carbon based targets: applications to the deposition of silicon-germanium and amorphous carbon thin films

• Auteur / Autrice : Frédéric Antoni
• Direction : Eric Fogarassy
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Physique
• Date : Soutenance en 1995
• Etablissement(s) : Strasbourg 1

Résumé

La technique d'ablation laser est appliquee a la realisation de couches minces de compose silicium-germanium et de carbone amorphe. Une description analytique du processus d'ablation montre que la repartition geometrique de la distribution de matiere sur le substrat est de forme elliptique et est independante de la densite d'energie du faisceau laser sur la cible ainsi que de l'element chimique qui la compose. Les couches de compose silicium-germanium presentent une structure cristalline lorsque la temperature du substrat de silicium est egale ou superieure a 500 degres. Cependant, il n'a pas ete possible de mettre en evidence de croissance epitaxiale de ces couches. Les couches de carbone deposees a temperature ambiante presentent des caracteristiques de transparence et de structure qui se rapprochent des materiaux diamantes