Pulverisation cathodique d'oxydes surpaconducteurs dans differentes geometries : etude spectroscopique du plasma

Sputtering of superconducting oxidesby different geometries: spectroscopy of the plasma

• Auteur / Autrice : Philippe Lecoeur
• Direction : Hugues Murray
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Physique
• Date : Soutenance en 1994
• Etablissement(s) : Caen

Résumé

La principale limitation de la pulverisation cathodique appliquee au depot d'oxydes supraconducteurs, tient essentiellement a la non conservation de la stchiometrie entre la cible et le substrat lorsque l'on travaille dans des conditions standard de depot. Il a ete montre que des geometries particulieres permettent de s'affranchir de ce probleme mais les phenomenes physiques impliques n'ont pas ete explicitement mis en evidence. C'est la raison pour laquelle nous avons etudie de facon systematique differents modules de pulverisation: un systeme de pulverisation diode radiofrequence; un systeme dans lequel le porte echantillon est place a 90 du plan de la cathode; un module par cathode creuse. L'etude a ete menee suivant deux directions distinctes. D'une part nous avons optimise les differentes geometries utilisees pour la realisation de films des composes yba#2cu#3o#7#-# et bi#2sr#2cacu#2o#8. Le flux gazeux utilise lors du depot apparait comme fondamental pour l'obtention de proprietes supraconductrices optimales. D'autre part, une etude par spectroscopie d'emission du plasma couplee a une analyse des depots obtenus a la temperature ambiante par spectroscopie d'electrons pour l'analyse chimique, a permis de montrer un phenomene d'oxydation a la surface de la cathode. L'absence de differences dans la nature des constituants des depots obtenus dans les differentes geometries nous a conduit a interpreter les ecarts a la stchiometrie observes en terme de variation de la distribution angulaire des differentes particules en sortie de la cathode