Auto-organisation assistée pour la nanoimpression à grande échelle et surfaces optiques multifonctionnelles
Auteur / Autrice : | Hind Kadiri |
Direction : | Gilles Lérondel, David Grosso |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Optique et Nanotechnologie |
Date : | Soutenance le 18/01/2018 |
Etablissement(s) : | Troyes |
Ecole(s) doctorale(s) : | Ecole doctorale Sciences pour l'Ingénieur (Troyes, Aube) |
Partenaire(s) de recherche : | Entreprise : SILSEF |
Université : UPMC | |
Grand établissement : Collège de France | |
Jury : | Président / Présidente : Jérôme Plain |
Examinateurs / Examinatrices : David Grosso, Jérôme Plain, Stéphane Collin, Erik Dujardin, Cédric Boissière, Daniel Turover | |
Rapporteurs / Rapporteuses : Stéphane Collin, Erik Dujardin |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Mots clés libres
Résumé
La nanostructuration de surface à grande échelle est un enjeu majeur des nanotechnologies et conditionne les réponses qu’elles peuvent apporter à divers défis sociétaux (santé, énergie et environnement). Il est cependant nécessaire de développer des techniques de structuration complémentaires ou alternatives simples et moins couteuses comparées à celles utilisées en microélectronique. La lithographie par nano-impression (NIL) apparait de plus en plus comme la solution pour nano-structurer des surfaces ou couches minces dans le but de donner aux matériaux de nouvelles fonctionnalités. Si elle est compatible « grande surface », la difficulté est reportée sur la fabrication des outillages pour la mettre en œuvre.L’objectif de cette thèse CIFRE en collaboration avec l'entreprise SILSEF était de développer une technologie originale de fabrication de moules nanométriques de grande taille avec comme difficulté majeure de réaliser des structurations sur de grandes surfaces et à bas coût.Deux objectifs scientifiques ont été poursuivis et atteints : 1) Développer la fabrication de moules à grande échelle (20x20 cm2) avec une gamme de structures simples et complexes. Ces structures ont été réalisées en combinant trois techniques : la lithographie colloïdale, la gravure plasma et/ou la technique d’évaporation. 2) Valider directement ou indirectement les moules pour la nanoimpression. Trois applications ont été adressées, l’extraction de photons dans des cristaux scintillateurs, le traitement antireflet (vis-IR) et la mouillabilité dans un contexte de surfaces optiques multifonctionnelles