Etude et amélioration de l'électromigration pour améliorer la durée de vie des interconnexions des technologies CMOS

Interconnexion life time optimisation by improvement of electromigration understanding

• Auteur / Autrice : Giulio Marti
• Direction : Yves Wouters
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Matériaux, Mécanique, Génie civil, Electrochimie
• Date : Soutenance le 02/12/2016
• Etablissement(s) : Université Grenoble Alpes (ComUE)
• Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Ingénierie - matériaux mécanique énergétique environnement procédés production (Grenoble ; 2008-....)
• Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Science et ingénierie des matériaux et procédés (Grenoble)
• Jury : Président / Présidente : Michel Pons
• Jury : Examinateurs / Examinatrices : Lucile Arnaud
• Jury : Rapporteurs / Rapporteuses : Roland Fortunier, Hélène Fremont

Mots clés

Mots clés contrôlés

Électricité -- Applications industrielles

Mots clés libres

Electromigration

Modélisation

Tests électriques

Electromigration

Modelization

Electrical tests

Résumé

En industrie, les modèles semi-empiriques sont généralement utilisés pour estimer la durée de vie des interconnexions. Il a été démontré que ces modèles ne sont pas fiables. Le but de ce travail est de fusionner deux domaines différents : la caractérisation expérimentale et modèles mathématiques que simulent l’EM. Cette approche originale a amélioré la fiabilité des prévisions de durée de vie.

In industry semi-empirical models are conventionally used to estimate the lifetime of interconnections. It has been shown that these models are not reliable. The aim of this work is to merge two different domains: the experimental characterization conventionally done and mathematical models simulating the EM. This original approach has improved the trustworthy of lifetime previsions.