MD simulation of H2 plasma/graphene interaction for innovative etching processes development
FR |
EN
Auteur / Autrice : | Alexandra Davydova |
Direction : | Gilles Cunge, Emilie Despiau-Pujo |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Nanoélectronique et nanotechnologie |
Date : | Soutenance le 24/10/2014 |
Etablissement(s) : | Grenoble |
Ecole(s) doctorale(s) : | École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble ; 199.-....) |
Partenaire(s) de recherche : | Equipe de recherche : Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble) |
Jury : | Président / Présidente : Rémi Dussart |
Examinateurs / Examinatrices : Gilles Cunge, Emilie Despiau-Pujo, Gilles Cartry, David B. Graves | |
Rapporteurs / Rapporteuses : Pascal Chabert, Holger Vach |
Mots clés
FR |
EN
Mots clés contrôlés
Mots clés libres
Résumé
FR |
EN
Graphène est un matériau bidimensionnel unique physique, chimique et les propriétés mécaniques. Il pourrait être prometteur pour de nouvelles applications, mais le contrôle nm échelle de traitement de graphène défis la technologie actuelle, en particulier dans le traitement du plasma, empêchant ainsi le développement de la technologie à base de graphène à l'échelle industrielle.