Thèse soutenue

MD simulation of H2 plasma/graphene interaction for innovative etching processes development
FR  |  
EN
Accès à la thèse
Auteur / Autrice : Alexandra Davydova
Direction : Gilles CungeEmilie Despiau-Pujo
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Nanoélectronique et nanotechnologie
Date : Soutenance le 24/10/2014
Etablissement(s) : Grenoble
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble ; 199.-....)
Partenaire(s) de recherche : Equipe de recherche : Laboratoire des technologies de la microélectronique (Grenoble)
Jury : Président / Présidente : Rémi Dussart
Examinateurs / Examinatrices : Gilles Cunge, Emilie Despiau-Pujo, Gilles Cartry, David B. Graves
Rapporteurs / Rapporteuses : Pascal Chabert, Holger Vach

Mots clés

FR  |  
EN

Mots clés contrôlés

Résumé

FR  |  
EN

Graphène est un matériau bidimensionnel unique physique, chimique et les propriétés mécaniques. Il pourrait être prometteur pour de nouvelles applications, mais le contrôle nm échelle de traitement de graphène défis la technologie actuelle, en particulier dans le traitement du plasma, empêchant ainsi le développement de la technologie à base de graphène à l'échelle industrielle.