Etude de la formation et du rôle des nanoparticules dans l'élaboration de couches minces d'oxyde d'étain par PECVD

par Marie Jubault

Thèse de doctorat en Génie des procédés et technologies avancées

Sous la direction de Farzaneh Arefi-Khonsari.

Soutenue en 2009

à Paris 6 .

mots clés

• Pecvd
• Nanostructure
• Couches minces
• Oxyde d’étain
• Tco
• Plasma poudreux

Résumé

Les couches minces d’oxyde d’étain sont largement utilisées dans différents domaines d’applications comme les électrodes transparentes, ou les détecteurs de gaz. Il a été montré que la nanostructure des films permettait d’améliorer sensiblement les propriétés optiques et électriques des couches minces de semiconducteurs. L’objectif de ce travail de thèse est de synthétiser des films minces de SnO2, en contrôlant leur nanostructure et leur composition. Lors de la croissance de couches minces dans notre système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), des poudres nanométriques, polymérisées en phase plasma, peuvent s’incorporer dans le film. Dans un premier temps, nous avons établi l’influence des paramètres du procédé sur l’évolution de la VDC, et relié ses variations à la granulométrie du film observé par miMEB. Nous avons ensuite étudié les dépôts obtenus en mode PECVD pulsé. Nous avons ainsi pu discuter différentes hypothèses sur les mécanismes de formations des poudres dans un plasma Ar/O2/(CH3)4Sn. La présence de nanocristallites incorporées au film d’oxyde d’étain a pu être établie.

Titre traduit

Study of growth and influence of nanoparticles in the deposition of tin oxide thin films by PECVD process

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