Etude de la formation et du rôle des nanoparticules dans l'élaboration de couches minces d'oxyde d'étain par PECVD

Study of growth and influence of nanoparticles in the deposition of tin oxide thin films by PECVD process

• Auteur / Autrice : Marie Jubault
• Direction : Farzaneh Arefi-Khonsari
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Génie des procédés et technologies avancées
• Date : Soutenance en 2009
• Etablissement(s) : Paris 6

Mots clés

Mots clés libres

Pecvd

Nanostructure

Couches minces

Oxyde d’étain

Tco

Plasma poudreux

Résumé

Les couches minces d’oxyde d’étain sont largement utilisées dans différents domaines d’applications comme les électrodes transparentes, ou les détecteurs de gaz. Il a été montré que la nanostructure des films permettait d’améliorer sensiblement les propriétés optiques et électriques des couches minces de semiconducteurs. L’objectif de ce travail de thèse est de synthétiser des films minces de SnO2, en contrôlant leur nanostructure et leur composition. Lors de la croissance de couches minces dans notre système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), des poudres nanométriques, polymérisées en phase plasma, peuvent s’incorporer dans le film. Dans un premier temps, nous avons établi l’influence des paramètres du procédé sur l’évolution de la VDC, et relié ses variations à la granulométrie du film observé par miMEB. Nous avons ensuite étudié les dépôts obtenus en mode PECVD pulsé. Nous avons ainsi pu discuter différentes hypothèses sur les mécanismes de formations des poudres dans un plasma Ar/O2/(CH3)4Sn. La présence de nanocristallites incorporées au film d’oxyde d’étain a pu être établie.