Dépôt d'oxyde de silicium par procédé plasma hors équilibre à basse pression et à pression atmosphérique sur de l'acier : application aux propriétés anticorrosion

Deposition of silicon oxide by low pressure and atmospheric pressure discharges to improve the corrosion behaviour of steel

• Auteur / Autrice : Camille Petit-Etienne
• Direction : Farzaneh Arefi-Khonsari
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Génie des procédés et hautes technologies
• Date : Soutenance en 2007
• Etablissement(s) : Paris 6

Mots clés

Mots clés libres

Oxyde de silicium

PECVD [Déposition chimique en phase gazeuse activée par plasma]

Basse pression

Pression atmosphérique

DBD [Décharges à barrière diélectrique]

Corrosion

Résumé

Deux procédés de traitement de surface par voie plasma ont été développés afin d’amélioration les propriétés anticorrosion d’un acier. Des films d’oxyde de silicium ont été déposés par PECVD à basse pression et à pression atmosphérique. L’héxaméthyldisiloxane a été utilisé comme précurseur. Les performances de perméabilité aux gaz et aux liquides des couches déposées sont très fortement liées à leur composition chimique (présence de C, absence de SiOH) et à leur structure (épaisseur, densité…) qui dépendent directement des conditions de traitement. La morphologie du dépôt ainsi que sa composition ont été analysées afin de caractériser les dépôts. Nous avons pu obtenir des couches épaisses, continues, lisses, peu poreuses, avec du carbone. L’efficacité des procédés de dépôts a été validée par l’étude des propriétés anticorrosion des films par voltampérométrie et par impédancemétrie. Les propriétés anticorrosion ont été nettement améliorées et persistent pour des temps long d’immersion