Auteur / Autrice : | Amandine Jouve |
Direction : | Laurent Gonon, Julia Simon |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Génie des procédés |
Date : | Soutenance en 2006 |
Etablissement(s) : | Grenoble INPG |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Mots clés libres
Résumé
Les performances d'une technique lithographique sont étroitement liées aux performances du procédé lithographique, et notamment aux performances des résines à amplification chimique. L'objet de ce travail est donc d'étudier certaines limitations de ces matériaux à adresser les critères requis par l'ITRS pour le nœud technologique 32 nm. Dans un premier temps nous avons montré que si les dernières formulations des résines photosensibles permettent effectivement d'imprimer des motifs de dimension proche de 32 nm, d'autres paramètres (sensibilité, rugosité, facteur de forme) ne sont toujours pas en adéquation avec les spécifications de l'ITRS. Nous avons particulièrement étudié l'effondrement des motifs de faible dimension, ainsi que l'évolution des performances du procédé lithographique des résines à amplification chimique en couche mince. L'ensemble de ces travaux a donc mis en évidence l'écart technologique croissant entre les spécifications de l'ITRS et les résultats expérimentaux, lorsque la dimension des motifs denses diminue, même après optimisation.