Thèse soutenue

Limitations des résines à amplification chimique destinées à la réalisation du noeud technologique 32 nm
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Auteur / Autrice : Amandine Jouve
Direction : Laurent GononJulia Simon
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Génie des procédés
Date : Soutenance en 2006
Etablissement(s) : Grenoble INPG

Mots clés

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Résumé

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Les performances d'une technique lithographique sont étroitement liées aux performances du procédé lithographique, et notamment aux performances des résines à amplification chimique. L'objet de ce travail est donc d'étudier certaines limitations de ces matériaux à adresser les critères requis par l'ITRS pour le nœud technologique 32 nm. Dans un premier temps nous avons montré que si les dernières formulations des résines photosensibles permettent effectivement d'imprimer des motifs de dimension proche de 32 nm, d'autres paramètres (sensibilité, rugosité, facteur de forme) ne sont toujours pas en adéquation avec les spécifications de l'ITRS. Nous avons particulièrement étudié l'effondrement des motifs de faible dimension, ainsi que l'évolution des performances du procédé lithographique des résines à amplification chimique en couche mince. L'ensemble de ces travaux a donc mis en évidence l'écart technologique croissant entre les spécifications de l'ITRS et les résultats expérimentaux, lorsque la dimension des motifs denses diminue, même après optimisation.