Thèse soutenue

Etude des propriétés de transport électronique de systèmes à fort désordreSi (111) MOSFET et d'anneaux interféromètres réalisés sur la base d'hétérostructures AlAs/GaAs et Si/SiGe

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Auteur / Autrice : Olivier Estibals
Direction : Jean-Claude Portal
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Matériaux, technologies et composants de l'électronique
Date : Soutenance en 2004
Etablissement(s) : Toulouse, INSA

Résumé

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Ce travail de thèse s'intéresse tout d'abord aux propriétés de transport d'un gaz électronique à deux dimensions réalisé selon le plan cristallographique (111) du silicium, dans des structures de type MOSFET. L'intérêt de ces échantillons est de présenter des taux de désordre et d'interactions électroniques très supérieurs aux Si (100) MOSFET abondamment étudiées dans la littérature, et donc de pouvoir caractériser plus précisément l'influence de ces deux paramètres. Notre étude a dans un premier temps porté sur la dépendance en température de la résistivité : un comportement non-monotone a été mis en évidence, son interprétation dans le cadre de récentes théories a permis de déterminer des constantes caractéristiques du système. Par la suite, nous avons mesuré la magnétoconductance de ces structures soumises à un champ parallèle au plan du gaz électronique. L'utilisation de moyens expérimentaux performants a permis de déterminer la variation du champ de polarisation complète en spin et du produit g*. M* (où g* désigne le facteur de Landé effectif et m* la masse effective) dans une gamme de densité exceptionnellement étendue. Ces caractéristiques permettent l'investigation de l'état fondamental du système et des mécanismes qui le gouvernent. Dans une deuxième partie, nous présentons l'étude du transport électronique cohérent dans des microstructures mésoscopiques en forme d'anneau. Nous montrons comment, par le choix d'un matériau et de technologies adaptés, il a été possible d'observer pour la première fois, des effets mésoscopiques sous très fort champ magnétique. Le transport électronique dans ce régime très particulier est analysé. Nous exposons pour finir le développement prometteur de microstructures réalisées dans un système Si/SiGe et les premiers résultats expérimentaux de cette étude