Thèse soutenue

Étude des paramètres microscopiques de la piézorésistivité de couches minces polycristallines de silicium dopé bore
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Auteur / Autrice : José Cali
Direction : Etienne Bustarret
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Physique des matériaux
Date : Soutenance en 1996
Etablissement(s) : Université Joseph Fourier (Grenoble ; 1971-2015)

Résumé

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L'elaboration de films minces de silicium polycristallin, obtenus par recuit thermique a 575c du silicium amorphe hydrogene depose par pecvd et dope in-situ au bore, a permis de mener une etude en fonction du dopage sur l'evolution des proprietes mecaniques (contraintes residuelles, constantes elastiques) et physico-chimiques (concentration d'hydrogene, indice de refraction) du materiau au cours du recuit. En particulier, nous montrons que le changement de signe de la courbure des plaques au cours du recuit est du a la desorption de l'hydrogene du film qui se produit a une temperature proche de la temperature de depot et independamment de la concentration de bore. Des mesures de diffraction de rayons x sous incidence rasante ont egalement permis de comparer la distribution des contraintes residuelles et les parametres mecaniques microscopiques a ceux macroscopiques deduits du releve de la deformee et des mesures de nano-indentation. En modelisant la reponse optique dans la gamme de l'infra-rouge moyen du silicium polycristallin par le modele de drude, nous avons determine sans contact les parametres microscopiques du transport dans le grain. Des mesures de piezoreflectivite infra-rouge nous ont ensuite permis de suivre l'evolution des parametres de transport sous contrainte statique imposee par un module de flexion quatre points. Nous en deduisons un facteur de jauge sensiblement constant dans notre gamme de dopage de l'ordre de 23 5 en bon accord avec celui obtenu d'apres des mesures de piezoresistivite