Auteur / Autrice : | Hanane Chaouni Benabdallah |
Direction : | Jean-Julien Heizmann, Jean Bessières |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Génie physique et mécanique |
Date : | Soutenance en 1995 |
Etablissement(s) : | Metz |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Cette étude présente l'évolution de la texture cristallographique de couches minces de deux composés très différents ; le cuivre et le tellurure de bismuth en fonction des conditions d'électrodéposition. Nous présentons les résultats relatifs à l'élaboration et à la texture de dépôts minces de cuivre en fonction de l'épaisseur et de la densité de courant. Au début de l'électrodéposition, la couche est isotrope. Lorsque l'épaisseur du dépôt augmente, des orientations de fibre uuw apparaissent. A partir de quelques micromètres, deux orientations principales subsistent <111> et/ou <100>, les orientations pour lesquelles w > u sont favorables à l'apparition de l'orientation <111>, dans le cas contraire, ce serait l'orientation <100>. Nous étudions l'effet de quatre paramètres sur la texture des dépôts de tellurure de bismuth: la nature du substrat, la densité de courant, la concentration de l'électrolyte et la stœchiométrie. La texture la plus favorable à l'utilisation des propriétés électriques correspond à des axes de fibre <10. 0> et <11. 0>, c'est-à-dire à l'axe c hexagonal parallèle à la surface de la couche, elle est obtenue pour une composition proche de la stœchiométrie. Nous avons pu mettre en évidence, à l'aide de la théorie de Hartmann, une corrélation entre l'orientation préférentielle et la morphologie des cristaux. Ce travail montre l'influence de certains paramètres sur la texture des dépôts et qu'il est possible de prévoir l'orientation de dépôts minces électrodéposés à partir de la théorie de Hartmann