Étude corrélative d'un plasma multipolaire d'oxygène et des diélectriques formés dans ce plasma sur un substrat semi-conducteur : application à la passivation du phosphure d'indium

par Ahmed Bouziane

Thèse de doctorat en Sciences appliquées

Sous la direction de Michel Remy.

Soutenue en 1993

à Nancy 1 , en partenariat avec Université Henri Poincaré Nancy 1. Faculté des sciences et techniques (autre partenaire) .

mots clés

• Fabrication microélectronique
• Structure mis
• Compose III-V
• Indium phosphure
• Passivation
• Application plasma
• Méthode analyse
• Plasma multipolaire
• Microélectronique
• Phosphure d'indium

Résumé

Ce travail consiste à étudier la passivation du phosphure d'indium (semi-conducteur III-V) dans un plasma multipolaire d'oxygène en adoptant deux types d'excitation: 1) excitation avec une cathode chaude; 2) excitation avec micro-onde (RCEL). L'optimisation du procédé a été basée essentiellement sur le diagnostic du plasma réalisé par deux méthodes: 1) diagnostic par sonde électrostatique; 2) étude de la propagation d'une onde acoustique ionique dans le plasma. Une caractérisation électrique des structures mis élaborées permet de tester les qualités de l'oxyde et de déterminer les paramètres physiques caractérisant l'isolant et son interface avec le semi-conducteur. Une caractérisation physico-chimique identifie la composition chimique de l'isolant

Titre traduit

Correlative study of oxygen multipolar plasma and dielectrics formed in this plasma on a semi-conductor substrat : application to a passivation of indium phosphide

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