Etude des mecanismes d'echauffement de l'anode porte-substrats dans une decharge de pulverisation d'iode-continu. Influence de la temperature et de la polarisation du substrat sur l'elaboration de couches minces de nitrure de titane

A study of substrate heating during deposition in dc sputtering. Influence of deposition temperature and substrate bias on elaboration of titanium nitride films

• Auteur / Autrice : DENIS MAHEO
• Direction : Jean-Marc Poitevin
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Chimie
• Date : Soutenance en 1991
• Etablissement(s) : Nantes

Résumé

Nous etudions l'influence des parametres d'une decharge de pulverisation diode-continu sur la quantite d'energie transferee a l'anode porte-substrats. Le cas d'une polarisation negative de l'anode est envisage. Le bombardement des substrats par les electrons et les ions issus de la decharge fait l'objet de developpements particuliers. La temperature d'equilibre des substrats est egalement mesuree. Nous examinons l'action conjuguee d'une polarisation negative du substrat et de la temperature de substrat pendant le depot sur l'elaboration de couches minces de nitrure de titane obtenues par pulverisation reactive. L'analyse par diffraction x permet de preciser la valeur du parametre de maille, les orientations preferentielles et la taille des cristallites. La morphologie des depots est examinee par microscopie electronique a balayage. Les resultats relatifs a la composition ont ete acquis par retrodiffusion de particules alpha, par microanalyse x et par spectroscopie de la photoelectrons. La resistivite electrique des films a ete reliee a la concentration en impuretes et a la microstructure