TY  - THES
DP  - 
		http://www.theses.fr/1990MON20092
TI  - Etude d'un système de masquage pour microlithographie sensible en UV profond et développable par plasma d'oxygène
AU  - Servera, Marc
A3  - Schué, François
PY  - 1990
SP  - 217 p
N1  - Thèse de doctorat Chimie des matériaux Montpellier 2 1990
N1  - 1990MON20092
ER  -