Étude de l'exposition de résines photosensibles positives utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs

Exposure investigation of positive photosensitive resins used in semiconductor fabrication

• Auteur / Autrice : Françoise Renou-Hassine
• Direction : Jean Faure
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Physique
• Date : Soutenance en 1986
• Etablissement(s) : Paris 11
• Partenaire(s) de recherche : autre partenaire : Université de Paris-Sud. Faculté des sciences d'Orsay (Essonne)

Mots clés

Mots clés contrôlés

Résines photosensibles

Spectroscopie laser

Mots clés libres

Diazonaphtalénone

Résine photosensible

Résumé

Le "photorésist" positif qui a fait l'objet de cette thèse se compose d'un polymère novolaque dans lequel est dissoute une diazonaphtalénone substituée. Les caractéristiques physicochimiques des différents composés du film - carbène, cétène - suggérés dans la réaction photochimique sont rappelées. Cette réaction de dégradation de la résine est étudiée par deux méthodes. D'abord, nous déterminons en photolyse continue de films minces l'ordre apparent de la réaction photochimique et l'influence de la composition de la résine sur l'ordre observé. Par cette méthode, chaque lot de résine commerciale peut être caractérisé par un jeu de paramètres spécifiques utilisés pour contrôler leur photosensibilité. Ensuite, l'analyse du composé photosensible en spectroscopie laser résolue dans le temps, effectuée en solution, nous a permis de déterminer les spectres d'absorption des composés intermédiaires formés. L'étude de l'influence de l'eau sur la durée de vie de ces composés a mis en évidence le caractère bimoléculaire de la réaction du cétène sur l'eau. La constante de vitesse de cette réaction a été déterminée. L'ensemble des résultats expérimentaux a été repris dans la mise au point de modèles de cinétique formelle. La variation de la densité optique en fonction du temps au cours d'une exposition continue du film est calculée pour chaque modèle et comparée à la variation mesurée. Il en ressort que l'absorption du polymère et celle des composés secondaires formés au cours de l'exposition doivent être prises en compte dans les calculs cinétiques