Développement et Caractérisation de procédés de gravure innovants à forte sélectivité pour des applications en technologie avancées de capteurs d'images et BiCMOS.

par Nicolas Loubet

Projet de thèse en Nano electronique et nano technologies

Sous la direction de Erwine Pargon et de Cécile Jenny.

Thèses en préparation à Grenoble Alpes , dans le cadre de École doctorale électronique, électrotechnique, automatique, traitement du signal (Grenoble) , en partenariat avec Laboratoire des Technologies de la Microélectronique (laboratoire) depuis le 17-12-2018 .


  • Résumé

    Le but de cette thèse est le développement de procédés de gravure innovants des espaceurs des transistors présents dans les technologies avancées de capteurs d'images et BiCMOS de STMicroelectronics. Ce développement passe notamment par l'étude et la caractérisation des espaceurs et la sélectivité de la gravure par rapport au substrat.

  • Titre traduit

    Development and characterization of innovative etch process with very large selectivity - application to spacer etch for advanced imaging and BiCMOS


  • Résumé

    The development of advanced imaging and BiCMOS technologies requires the implementation of an innovative spacers etch process. The goal is to develop and characterize this process and the etch selectivity needed to improve them.