Modélisation de la gravure profonde du silicium en plasmas fluorés : etude du procédé BOSCH : simulations et calibration expérimentale

par Guillaume LE DAIN

Thèse de doctorat en Génie des procédés

Sous la direction de Ahmed Rhallabi et de Christophe Cardinaud.

Thèses en préparation à Nantes , dans le cadre de 3M - Matières, Molécules et Matériaux (Nantes) depuis le 15-10-2015 .


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