Synthèse de couches minces et ultra-minces métalliques et composées par pulvérisation cathodique magnétron pulsé à haute puissance

par Felipe Cemin

Projet de thèse en Physique des plasmas

Sous la direction de Daniel Lundin et de Tiberiu Minea.

Thèses en préparation à Paris Saclay , dans le cadre de Ondes et Matière , en partenariat avec Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas (laboratoire) et de Université Paris-Sud (établissement de préparation de la thèse) depuis le 01-10-2015 .


  • Résumé

    L'objectif de cette thèse est d'étudier la corrélation entre la physique de plasmas dans les dépôts par HIPIMS et la nano-structure et les propriétés finales de couches minces et ultra-minces métalliques et composées, afin de vérifier l'applicabilité de ces films minces dans les dispositifs de la microélectronique et de stockage d'énergie. Une attention particulière sera donné aux premiers moments de la croissance des couches ultra-minces par HIPIMS. Les films minces seront préparés en faisant varier les paramètres de la source pulsée, pour vérifier la corrélation entre les différentes conditions de plasma avec les nano-structures obtenues dans chaque cas. Après les dépôts, les différentes techniques de caractérisation seront utilisées pour évaluer la nano-structure physico-chimie et des propriétés électriques des films.

  • Titre traduit

    Synthesis of metallic and compound thin and ultra-thin films by High Power Impulse Magnetron Sputtering


  • Résumé

    The aim of this thesis is to study the correlation between the plasma physics of HIPIMS deposition process and the nanostructure and final properties of metallic and compound thin and ultra-thin films, in order to verify the applicability of the synthesized thin films in microelectrnic and energy storage devices. A particular attention will be paid to the early stages of the growth using HiPIMS processing. The thin films will be deposited by varying the parameters of the pulsed source, to check the correlation between different plasma conditions with the nanostructures obtained in each case. After the depositions, different characterization techniques will be used to evaluate the physicochemical nanostructure and some electrical properties of the films.