Thèse soutenue

Etudes optiques et électriques des propriétés électroniques de nano-cristaux de silicium pour composants mono-électroniques

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Auteur / Autrice : Christophe Busseret
Direction : Abdelkader Souifi
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Dispositifs de l'Electronique Intégrée
Date : Soutenance en 2001
Etablissement(s) : Lyon, INSA
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Électronique, électrotechnique, automatique (Lyon)
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : LPM - Laboratoire de Physique de la Matière (1961-2007)

Mots clés

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Mots clés contrôlés

Résumé

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La loi de Moore qui décrit la microélectronique depuis plus de 30 ans est encore envisagée pour la décade à venir. Les technologues seront alors capables de réaliser des structures d'une dizaine de nanomètres et même en dessous. Cependant, les propriétés macroscopiques appliquées jusqu'à présent ne seront plus applicables pour de telles dimensions. Pour dépasser les barrières physiques qui résulteront de ce passage à l'échelle du nanomètre, il conviendra d'apprendre à utiliser les nouvelles lois physiques au rang desquelles nous pouvons citer le confinement quantique, le blocage de Coulomb ou l'effet tunnel. Le propos de cette thèse s'inscrit dans la compréhension des nouvelles propriétés physiques de l'électronique de demain : elle propose une caractérisation des propriétés électroniques des nanostructures de silicium. Le premier chapitre sera le cadre d'une démonstration du changement des caractéristiques du silicium lorsque les dimensions atteignent quelques nanomètres. En parallèle à cette description, les dispositifs envisagés seront présentés avec les procédés technologiques associés. Dans le chapitre II, une caractérisation optique des boîtes de silicium est proposée. L'objectif est de démontrer les effets du confinement quantique à l'aide d'études de photoluminescence et d'absorption,. Le chapitre III est réservé aux études de transport afin de comprendre et modéliser l'influence de nodules de silicium dans une matrice d'oxyde. Enfin, le chapitre IV est orienté vers l'interprétation des cinétiques de capture et de rétention de charges par les nodules nanométriques de silicium pour des applications mémoires.