Elodie Sungauer
IdRefMots clés
FR |
EN
MOS complémentaires
Gravure par plasma
Oxyde de hafnium
Lithographie
Implant
Correction des effets de proximité optique
Effets d’empilement
Sous-couches
Simulation rigoureuse
Méthode des sources généralisées
Photolithographie
Couches minces
Résines photosensibles
Métrologie
Cd-Sem 3d
Reconstruction 3D
Modèle linéaire
Simulation
Machines à mesurer tridimensionnelles
Modèles linéaires (statistique)