Thèse soutenue

Collage III-V//Si par couches transparentes conductrices pour cellules solaires tandem

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Auteur / Autrice : Phuong-Linh Nguyen
Direction : Stéphane CollinAndrea CattoniPhilippe Baranek
Type : Thèse de doctorat
Discipline(s) : Electronique et Optoélectronique, Nano- et Microtechnologies
Date : Soutenance le 25/04/2022
Etablissement(s) : université Paris-Saclay
Ecole(s) doctorale(s) : École doctorale Electrical, optical, bio-physics and engineering
Partenaire(s) de recherche : Laboratoire : Centre de nanosciences et de nanotechnologies (Palaiseau, Essonne ; 2016-....) - Institut photovoltaïque d’Île-de-France - Électricité de France. Division Recherches et développement. Département EFESE
référent : Faculté des sciences d'Orsay
graduate school : Université Paris-Saclay. Graduate School Sciences de l'ingénierie et des systèmes (2020-....)
Jury : Président / Présidente : Anne Talneau
Examinateurs / Examinatrices : Anne Kaminski-Cachopo, Yvan Cuminal, Romain Cariou
Rapporteurs / Rapporteuses : Anne Kaminski-Cachopo, Yvan Cuminal

Résumé

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95% de la production photovoltaïque totale en 2020 est réalisée à partir de silicium. À l'échelle du laboratoire, le rendement record des cellules solaires silicium simple-jonction a atteint 27.6%, proche du rendement limite théorique de 29.4%. Une alternative pour mieux exploiter le spectre solaire consiste à combiner plusieurs semi-conducteurs dans des cellules solaires tandem, avec un rendement théorique de près de 45% pour une cellule solaire tandem optimale à double-jonction à base de Si. Les meilleures performances ont été obtenues par collage direct de III-V sur Si, mais la mise à l’échelle de cette technologie est difficile. Dans cette thèse, nous avons conçu et développé une nouvelle méthode de collage, potentiellement peu coûteuse, pour les cellules solaires tandem III-V sur silicium à deux terminaux, basée sur des couches transparentes conductrices (TCL). Cet empilement de TCL est composé de deux revêtements antireflets (ARCs) dérivés de sol-gels et d'une couche à faible indice de réfraction. Les ARCs assurent des contacts ohmiques avec les sous-cellules et la transmission des photons de faible énergie à la cellule de silicium. La couche à faible indice de réfraction assure à la fois l'interconnexion électrique entre les sous-cellules et un meilleur recyclage des photons dans la cellule supérieure (gain d'efficacité pouvant atteindre 0.9% en valeur absolue). L’empilement TCL a été optimisé à l'aide d'outils de simulation optique afin d'obtenir une concordance de courant avec une perte de courant minimale, similaire au cas de l'architecture à collage direct. Le processus de laminage est réalisé dans l'air, à basse température de polymérisation (120°C) à l'aide d'une simple presse hydraulique. Un processus de photolithographie reproductible et robuste à une basse température de 80°C a également été optimisé avec succès. Nous avons fabriqué une première génération de cellule tandem AlGaAs/TCLs/Si ayant une surface de 1 cm², avec une cellule Si de type TOPCon et une colle à base de PEDOT:PSS, qui montre des résultats prometteurs. Une stratégie de piégeage de la lumière utilisant une couche nanostructurée insérée à l'arrière de la cellule supérieure a également été explorée par des simulations électromagnétiques, en tenant compte des contraintes pratiques. Cette stratégie permet de minimiser l'utilisation de matériaux III-V par un facteur de 2.6.