Etude de couches minces pour miroirs a rayons x-uv realisees par pulverisation ionique et depot assiste par bombardement ionique. Application du bombardement ionique a l'erosion de surfaces optiques

by ODILE LAM

Doctoral thesis in Physique

Under the supervision of JEAN PIERRE CHAUVINEAU.

defended on 1991

in Paris 11 .

  • Alternative Title

    Ion assisted deposition and ion beaum sputtering deposition of thin films for soft x rays mirrors. Ion beam etching of optical surfaces


  • Abstract not available

    keywords keywords


  • Abstract

    Dans le but d'evaluer les avantages et les inconvenients de differents procedes de depot de couches ultra-minces plus particulierement destinees aux miroirs a rayons x-uv, nous avons realise des depots de materiaux appropries (w, mo, ni, rh, si, c), en couches simples et multicouches (mo/si, w/si, rh/c), par deux procedes bases sur les faisceaux d'ions. Les couches sont controlees in-situ pendant le depot par reflectometrie de rayons x mous (4,47 nm ou 6,76 nm). La modelisation de ces courbes de reflectivite permet d'obtenir des courbes d'evolution de la rugosite avec l'epaisseur. Toutes les couches preparees par pulverisation par des ions argon presentent des rugosites de surface tres faibles, ce qui permet de realiser des miroirs pour rayons x mous a fort pouvoir reflecteur. Ce resultat est lie a l'accroissement de l'energie cinetique, et donc de la mobilite des particules deposees. En revanche, alors que les materiaux covalents, principalement le silicium, voient leur surface lissee par bombardement d'ions argon de faible energie (50 ev), l'etat de surface des couches metalliques est systematiquement degrade par le meme procede de depot. La possibilite d'usiner des surfaces optiques (verre, silice et germanium) par bombardement ionique, dans le but de mettre au point un procede d'aspherisation est abordee. Si la rugosite, mesuree sur un profilometre mecanique a stylet, des surfaces vitreuses se maintient a un tres faible niveau (0,2 nm), celle du germanium initialement plus elevee croit legerement sous bombardement ionique. La redeposition des particules pulverisees sur le masque d'usinage a ete observee hors de la partie utile des surfaces erodees

Consult library

Version is available as a paper

Informations

  • Annexes : 71 REF

Where is this thesis?