TY  - THES
DP  - http://www.theses.fr/2019GREAT003
TI  - Etude de la gravure du SiN contrôlée a l'échelle atomique par implantation d'O2 suivi de gravure ultra-sélective SiO2/SiN en plasma déporté NF3/NH3
AU  - Soriano casero, Robert
A3  - Cunge, Gilles
PY  - 2019
N1  - Thèse de doctorat Nano electronique et nano technologies Université Grenoble Alpes (ComUE) 2019
N1  - 2019GREAT003
UR  - http://www.theses.fr/2019GREAT003/document
ER  -