Synthesis and characterization of new inorganic molecular precursors for the deposition of multifunctional metal oxide films by CBVD

par Diane Bijou

Thèse de doctorat en Chimie

Sous la direction de Stéphane Daniele.

Soutenue le 20-07-2018

à Lyon , dans le cadre de École Doctorale de Chimie (Lyon) , en partenariat avec Université Claude Bernard (Lyon) (établissement opérateur d'inscription) et de Institut de Recherches sur la Catalyse et l'Environnement de Lyon (Villeurbanne, Rhône) (laboratoire) .

Le président du jury était Didier Léonard.

Le jury était composé de Stéphane Daniele, Estelle Wagner, Nathanaëlle Schneider.

Les rapporteurs étaient Graziella Malandrino, Mikhael Bechelany.

  • Titre traduit

    Synthèse et caractérisation de nouveaux précurseurs moléculaires inorganiques pour le dépôt de films d'oxydes métalliques multifonctionnels par CBVD (Chemical Beam Vapour Deposition)


  • Résumé

    Dans ce manuscrit, un travail hautement multidisciplinaire, de la synthèse de ligands organiques à la caractérisation de couches minces, est présenté. L'objectif principal de cette étude était d'élaborer de nouveaux précurseurs de niobium, de titane et d'alcalino-terreux adaptés au procédé de dépôt de couches minces par CBVD développé par la société 3D-OXIDES. Afin de répondre aux exigences de ce procédé, deux classes innovantes de dérivés moléculaires à base de ß-amino-alcool ou de ß-dicétone ?-modifiée ont été élaborées grâce à la synthèse organique de nouveaux ligands. Les complexes métalliques ont ensuite été entièrement caractériser et leur intérêt respectif dans le processus de dépôt par CBVD a été étudié à travers la détermination des pressions de vapeur, les taux de croissance, les caractérisations spectroscopiques et analyses des couches minces


  • Résumé

    In this manuscript, a highly multidisciplinary work from organic ligand syntheses to thin films characterizations is presented. The main objective of this study was to elaborate new suitable niobium-, titanium-, and alkaline earth-based precursors for CBVD thin film deposition process developed by 3D-OXIDES company. In order to reach the requirements for CBVD deposits applications, two innovative classes of molecular derivatives based on either ß-amino-alcohol or ?-modified ß-diketone ligand have been elaborated, starting from the organic synthesis of new ligands, and thoroughly characterized. Their respective interest in CBVD deposition process was fully analyzed through the determination of vapor pressures, growth rates and spectroscopic and thin film characterizations

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