TY  - THES
DP  - http://www.theses.fr/2016LORR0196
TI  - Dépôt et caractérisation de couches minces de SiCxNy.H par CVD assistée par plasma micro-ondes ECR avec précurseurs organosiliciés
AU  - Thouvenin, Amanda
A3  - Belmahi, Mohammed
PY  - 2016
N1  - Thèse de doctorat Physique Université de Lorraine 2016
N1  - 2016LORR0196
UR  - http://www.theses.fr/2016LORR0196/document
ER  -