Apport de la technologie d’intégration 3D à forte densité d’interconnexions pour les capteurs d'images CMOS

par Fernando Rodolfo Raymundo Luyo

Thèse de doctorat en Micro et nanosystèmes

Sous la direction de Pierre Magnan et de Philippe Martin-Gonthier.

Le président du jury était Wilfried Patrick Uhring.

Le jury était composé de Dominique Ginhac.

Les rapporteurs étaient Antoine Dupret, Gilles Sicard.


  • Résumé

    Ce travail a montré que l’apport de la technologie d’intégration 3D, permet de surmonter les limites imposées par la technologie monolithique sur les performances électriques (« coupling » et consommation) et sur l’implémentation physique (aire du pixel) des imageurs. Grâce à l’analyse approfondie sur la technologie d’intégration 3D, nous avons pu voir que les technologies d’intégration 3D les plus adaptées pour l’intégration des circuits dans le pixel sont : 3D wafer level et 3D construction séquentielle. La technologie choisie pour cette étude, est la technologie d'intégration 3D wafer level. Cela nous a permis de connecter 2 wafers par thermocompression et d’avoir une interconnexion par pixel entre wafers. L’étude de l’architecture CAN dans le pixel a montré qu’il existe deux limites dans le pixel : l’espace de construction et le couplage entre la partie analogique et numérique « digital coupling ». Son implémentation dans la technologie 3D autorise l’augmentation de 100% l’aire de construction et la réduction du « digital coupling » de 70%. Il a été implémenté un outil de calcul des éléments parasites des structures 3D. L’étude des imageurs rapides, a permis d’étendre l’utilisation de cette technologie. L’imageur rapide type « burst » a été étudié principalement. Cet imageur permet de dissocier la partie d’acquisition des images de la sortie. La limite principale, dans la technologie monolithique, est la taille des colonnes (pixels vers mémoires). Pour une haute cadence d’acquisition des images, il faut une grande consommation de courant. Son implémentation dans la technologie 3D a autorisé à mettre les mémoires au-dessous des pixels. Les études effectuées pour ce changement (réduction de la colonne à une interconnexion entre wafers), ont réduit la consommation totale de 90% et augmenté le temps d’acquisition des images de 184%, en comparaison à son pair monolithique.

  • Titre traduit

    Contribution of the 3D integration technology using high density of interconnexions for cmos image sensors


  • Résumé

    This work has shown that the contribution of 3D integration technology allows to overcome the limitations imposed by monolithic technology on the electrical performances (coupling and consumption) and on the physical implementation (area of the pixel) of imagers. An in-depth analysis of the 3D integration technology has shown that the most suitable 3D integration technologies for the integration of the circuits at the pixel level are: 3D wafer level and 3D sequential construction. The technology chosen for this study is the 3D wafer level integration technology. This allows us to connect 2 wafers by thermocompression bonding and to have an interconnection or “bonding point” par pixel between wafers. The study of the architecture CAN at the pixel level showed that there are two limits in the pixel: the construction area and the coupling between the analog and digital part «digital coupling». Its implementation in 3D technology allows the construction area to be increased by 100% and the digital coupling reduced by 70%. It has been implemented a tool for computing the parasitic elements of 3D structures. The study of high speed imagers has allowed the use of this technology to be extended. The "burst" imager was mainly studied. This kind of imager’s architecture can dissociate the image acquisition from the output part. The main limit, in monolithic technology, is the size of the columns (pixels to memories). For a high rate of image acquisition, a high current consumption is required. Its implementation in 3D technology allowed to put the memories below the pixels. The studies carried out for this change (reduction of the column to an interconnection between wafers) reduced the total consumption by 90% and increased the acquisition time of the images by 184%, compared to its monolithic peer.


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