TY - THES DP - http://www.theses.fr/2015GREAT072 TI - Amélioration des méthodes de contrôle dimensionnel et d'alignement pour le procédé de lithographie à double patterning pour la technologie 14 nm AU - Carau, Damien A3 - Gourgon, CécileBesacier, Maxime; Dezauzier, Christophe PY - 2015 N1 - Thèse de doctorat Nanoélectronique et nanotechnologie Université Grenoble Alpes (ComUE) 2015 N1 - 2015GREAT072 UR - http://www.theses.fr/2015GREAT072/document ER -