Composants à puits quantiques Ge/SiGe pour la modulation, la détection et l’émission de lumière
Auteur / Autrice : | Papichaya Chaisakul |
Direction : | Laurent Vivien, Delphine Marris-Morini |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Physique |
Date : | Soutenance le 23/10/2012 |
Etablissement(s) : | Paris 11 |
Ecole(s) doctorale(s) : | Ecole doctorale Sciences et Technologies de l'Information, des Télécommunications et des Systèmes (Orsay, Essonne ; 2000-2015) |
Partenaire(s) de recherche : | Laboratoire : Institut d'électronique fondamentale (Orsay, Essonne ; 19..-2016) |
Jury : | Président / Présidente : Jean-Jacques Greffet |
Examinateurs / Examinatrices : Laurent Vivien, Delphine Marris-Morini, Jean-Jacques Greffet, Isabelle Sagnes, Dries Van Thourhout, Bert Jan Offrein, Frédéric Boeuf | |
Rapporteurs / Rapporteuses : Isabelle Sagnes, Dries Van Thourhout |
Mots clés
Mots clés contrôlés
Résumé
Cette thèse est consacrée à l’étude des propriétés optiques et optoélectroniques autour de la bande interdite directe des structures à puits quantiques Ge/SiGe pour la modulation, la photodétection et l’émission de lumière sur la plateforme silicium. Les principaux composants réalisés sont : un modulateur optique en guide d’onde, rapide et à faible puissance électrique, basé sur l’Effet Stark Confiné Quantiquement, les premières photodiodes Ge/SiGe dont le comportement fréquentiel est compatible avec les transmissions de données à 40 Gbit/s, et la première diode à électroluminescence à puits quantiques Ge/SiGe, base sur la transition directe de ces structures et fonctionnant à température ambiante. Les caractérisations statiques et fréquentielles ont été réalisées sur l’ensemble des composants, qui ont tous été fabriqués avec la même structure épitaxiée et les mêmes procédés de fabrication. Des modèles théoriques simples ont ensuite été utilisés pour décrire analyser les comportements observés. Finalement les études menées permettent de conclure que les structures à puits quantiques Ge/SiGe sont un candidat de choix pour la réalisation d’une nouvelle plateforme photonique à haut débit, totalement compatible avec les technologies silicium.