Dépôt de couches minces par plasma haute densité à basse pression : influence de l'injection de silane sur la cinétique du dépôt et les propriétés de la silice

par Roelene Botha

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Bernard Drévillon.

Soutenue en 2008

à Palaiseau, Ecole polytechnique .


  • Résumé

    Il s’agit de dépôt de silice utilisant le silane et l’oxygène dans un système plasma haute densité. L’influence des paramètres du procédé et du système d’injection du silane sur les propriétés des matériaux sont étudiés par ellipsométrie spectroscopique, spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier, spectroscopie de transmission et microscopie à force atomique. On étudie la phase gazeuse par spectroscopie d’émission optique et spectrométrie de masse quadripolaire avec pompage différentiel. La création de l’eau dans le système et son incorporation dans les couches pendant le dépôt sont étudiées utilisant l’injection du silane par jet capillaire. L’absorption du Si-OH dans les couches est mesurée en différentes positions sur le substrat. Les simulations de flux de gaz par la technique simulation directe Monte-Carlo sont utilisées pour étudier le flux des espèces sur le porte substrat. On a trouvé que le flux de l’eau est uniforme tandis que le flux de silane varie sur le porte substrat, ce qui explique la faible quantité de silanol dans la couche dans les régions déposées à grande vitesse. Une comparaison entre les résultats expérimentaux et les simulations montre que les systèmes plasma haute densité peuvent seulement être considérés comme bien mélangés quand il n’y a pas une élimination rapide des espèces en phase gazeuse.

  • Titre traduit

    Deposition if thin films in a high-density low-pressure plasma system: the influence of the silane injection on the deposition kinetics and material properties of silica


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Informations

  • Détails : 1 vol. ( 188 p.)
  • Annexes : Bibliographie 148 réf.

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