Dépôt d'oxyde de silicium par procédé plasma hors équilibre à basse pression et à pression atmosphérique sur de l'acier : application aux propriétés anticorrosion

par Camille Petit-Etienne

Thèse de doctorat en Génie des procédés et hautes technologies

Sous la direction de Farzaneh Arefi-Khonsari.

Soutenue en 2007

à Paris 6 .


  • Résumé

    Deux procédés de traitement de surface par voie plasma ont été développés afin d’amélioration les propriétés anticorrosion d’un acier. Des films d’oxyde de silicium ont été déposés par PECVD à basse pression et à pression atmosphérique. L’héxaméthyldisiloxane a été utilisé comme précurseur. Les performances de perméabilité aux gaz et aux liquides des couches déposées sont très fortement liées à leur composition chimique (présence de C, absence de SiOH) et à leur structure (épaisseur, densité…) qui dépendent directement des conditions de traitement. La morphologie du dépôt ainsi que sa composition ont été analysées afin de caractériser les dépôts. Nous avons pu obtenir des couches épaisses, continues, lisses, peu poreuses, avec du carbone. L’efficacité des procédés de dépôts a été validée par l’étude des propriétés anticorrosion des films par voltampérométrie et par impédancemétrie. Les propriétés anticorrosion ont été nettement améliorées et persistent pour des temps long d’immersion

  • Titre traduit

    Deposition of silicon oxide by low pressure and atmospheric pressure discharges to improve the corrosion behaviour of steel


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Informations

  • Détails : 1 vol. (255 f.)
  • Annexes : Bibliogr. en fin de chapitres. 166 réf. bibliogr.

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  • Bibliothèque : Université Pierre et Marie Curie. Bibliothèque Universitaire Pierre et Marie Curie. Section Biologie-Chimie-Physique Recherche.
  • Consultable sur place dans l'établissement demandeur
  • Cote : T Paris 6 2007 249
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