Etude de procédés plasma basse énergie pour la préparation de surface de silicium et le dépôt chimique en phase vapeur d'hétérostructures Si/SiGe

par Guillaume Pin

Thèse de doctorat en Sciences des matériaux

Sous la direction de Isabelle Berbezier.

  • Titre traduit

    Study of low energy plasma processes for silicon surface preparation and chemical vapor deposition of Si/SiGe heterostructures


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Informations

  • Détails : 1 vol. (205 p.)
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. : p.189-204

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université Aix-Marseille (Marseille. Luminy). Service commun de la documentation. Bibliothèque de sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : 44056
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