Caractérisation d'une source de rayonnement extrême-ultraviolet (EUV) par décharge capillaire : mise en évidence du seuil d'ablation des parois

par Ouassima Sarroukh

Thèse de doctorat en Physique des plasmas

Sous la direction de Claude Fleurier.

Soutenue en 2005

à Orléans .


  • Résumé

    Ce travail concerne l'étude et la caractérisation d'une source de rayonnement Extrême Ultraviolet (EUV) pouvant répondre à diverses applications scientifiques et industrielles en particulier celles liées à la nouvelle génération de la lithographie EUV. Cette source pulsée nommée CAPELLA consiste en une décharge dans un capillaire en alumine où circule un gaz. Ce type de décharge produit un plasma chaud, dense et fortement ionisé émettant dans l'EUV. Les échanges thermiques entre le plasma et la paroi peuvent être suffisamment importants pour que la paroi se trouve ablatée. L'utilisation d'un modèle thermique qui détermine l'évolution temporelle de la température de la paroi permet de calculer le seuil d'ablation. Des mesures spectroscopiques du plasma dans plusieurs plages spectrales ont confirmé la présence de ce seuil pour une densité d'énergie injectée de 350 J. Cm-3. Les résultats des mesures spectroscopiques ont été comparés aux résultats issus du modèle.

  • Titre traduit

    Characterisation of an extreme ultraviolet (EUV) radiation source based on capillary discharge plasma : observation of an ablation threshold of the capillary wall


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Informations

  • Détails : 166 p.
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. p. 159-166

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université d'Orléans. Service commun de la documentation.Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TS 19-2005-9
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