Développement, par une approche mixte top-down / bottom-up, de dispositifs planaires pour la nanoélectronique

• Auteur / Autrice : Christel Martin
• Direction : Jean-Pierre Peyrade, Laurence Ressier
• Type : Thèse de doctorat
• Discipline(s) : Nanophysique, nanocomposants, nanomesures
• Date : Soutenance en 2005
• Etablissement(s) : Toulouse, INSA

Mots clés

Mots clés contrôlés

Lithographie par faisceau d'électrons

Nanotechnologie

Mots clés libres

Nanoélectronique

Nanoélectrodes

Lithographie électronique

Nano-impression

Fonctionnalisation chimique de surfaces

Résumé

Le travail présenté est une contribution au développement de dispositifs pour la nanoélectronique en associant les techniques de fabrication top-down et bottom-up. Notre choix s'est porté sur l'intégration de nano-objets (réseau 3D ou 2D ou bien objet unique) dans un dispositif à géométrique planaire composé de deux électrodes séparées par un intervalle nanométrique. Nous présentons tout d'abord les différents procédés technologiques (basé principalement sur la lithographie électronique) utilisés pour la fabrication de nanoélectrodes métalliques (or) ou métalliques magnétiques (cobalt) sur un substrat de SiO2/Si. Puis, nous montrons qu'il est ensuite possible de contrôler localement le dépôt d'une monocouche auto-organisée de silane (Octadécyltriméthoxysilane), destinée à favoriser l'adsorption de manière contrôlée et dirigée de nano-objets, en combinant la nano-impression et un dépôt chimique en phase vapeur. Pour finir, nous présentons les premiers résultats de réalisation du dispositif complet et ses premières caractéristiques.

The work presented is a contribution to the development of nanoelectronic devices by combining the top-down and bottom-up approaches. Our aim is the integration of nano-objects (3D or 2D arrays or single objects) into a device of planar geometry composed of two electrodes separated by a nanometric gap. First of all, we present the various technological processes (based mainly on Electron Beam Lithography) used for the fabrication of metallic (Gold) or magnetic (Co) nanoelectrodes on a SiO2/Si substrate. Then, we show that it is possible to locally control the deposition of a self-organized silane (Octadecyltrimethoxysilane) monolayer, intended to support the adsorption of nano-objects in a controlled and directed way, by combining NanoImprint Lithography and Chemical Vapour Deposition. Finally, we present preliminary results of the fabrication of the complete device and its characteristics.