Transport de matière et composition chimique superficielle dans des alliages à fort potentiel industriel

par Joseph Nyeki

Thèse de doctorat en Physique et sciences de la matière. Science des matériaux

Sous la direction de Jean Bernardini.

Soutenue en 2004

à Aix-Marseille 3 en cotutelle avec l'Université de Debrecen, Hongrie .


  • Résumé

    Nous présentons une étude de diffusion et ségrégation dans 2 types de matériaux à fort potentiel industriel : des alliages à mémoire de forme et des semiconducteurs amorphes. La diffusion intergranulaire du 63Ni est mesurée dans NiTi par radiotraceur et analysée en fonction de différentes études antérieures de diffusion volumique. Les diffusions volumiques du 63Ni et du 67Ga sont étudiées dans Ni2MnGa monocristallin et comparées aux études menées dans les systèmes B2. La ségrégation de Ge à la surface de films amorphes Si1-xGex est étudiée par AES et analysée avec le modèle de McLean. Les paramètres de diffusion et ségrégation sont calculés avec le modèle de Lea et Seah. La diffusion et la ségrégation superficielle de Sb dans des bi-couches aSi-Sb est étudiée par AES. Les paramètres de diffusion et de ségrégation sont calculés à partir des cinétiques de ségrégation avec le modèle de Lea et Seah ; les résultats sont comparés à ceux de la littérature pour le silicium cristallin et amorphe

  • Titre traduit

    Mass transport and surface segregation in technically important alloys


  • Résumé

    We discuss diffusion and segregation studies performed in two kinds of technologically important materials : shape memory alloys and amorphous semiconductors. 63Ni GB diffusion is studied in polycrystalline NiTi by radiotracer. The results are presented in the framework of previous bulk diffusion studies. 63Ni and 67Ga bulk diffusion are studied in monocrystalline Ni2MnGa and the diffusion parameters compared to bulk diffusion parameters published in B2 systems. Surface segregation of Ge in amorphous Si1-xGex thin films is analyzed by AES. The equilibrium segregation parameters are obtained using McLean's model and the diffusion and segregation parameters calculated using Lea and Seah's model. Sb diffusion and segregation is studied in a-Si/Sb bilayers by AES. The diffusion and segregation parameters are calculated from the kinetic curves using Lea and Seah's model. The diffusivity and the segregation of Sb are compared to that of different dopants in a-Si and c-Si

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 1 vol. (107 p.)
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Notes bibliogr.

Où se trouve cette thèse\u00a0?

  • Bibliothèque : Université d'Aix-Marseille (Marseille. Saint-Jérôme). Service commun de la documentation. Bibliothèque de sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : T 3231
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.