Spéficité structurale et propriété d'oxyde de silicium déposé par procédé plasma

par Moncef Chayani

Thèse de doctorat en Matériaux, technologie et composant de l'électronique

Sous la direction de Bernard Despax.

Soutenue en 2003

à Toulouse 3 .

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Informations

  • Détails : 240 p.
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. à la fin des chapitres

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université Paul Sabatier. Bibliothèque universitaire de sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : 2003TOU30091
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