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Spéficité structurale et propriété d'oxyde de silicium déposé par procédé plasma

par Moncef Chayani

Thèse de doctorat en Matériaux, technologie et composant de l'électronique

Sous la direction de Bernard Despax.

Soutenue en 2003

à Toulouse 3 .

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La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 240 p.
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. à la fin des chapitres

Où se trouve cette thèse\u00a0?

  • Bibliothèque : Université Paul Sabatier. Bibliothèque universitaire de sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : 2003TOU30091

Cette version existe également sous forme de microfiche :

  • Bibliothèque : Université de Lille. Service commun de la documentation. Bibliothèque universitaire de Sciences Humaines et Sociales.
  • Non disponible pour le PEB
  • Cote : 2003TOU30091
  • Bibliothèque : Université Paris-Est Créteil Val de Marne. Service commun de la documentation. Section multidisciplinaire.
  • PEB soumis à condition
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