Dépôt de films minces de TaSiN et d'IrO2 par pulvérisation cathodique réactive : optimisation en tant que barrière de diffusion à l'oxygène et électrode

par Franck Letendu

Thèse de doctorat en Physique des matériaux

Sous la direction de Bernard Agius et de Marie-Christine Hugon.

Soutenue en 2003

à Paris 7 .

  • Titre traduit

    Deposition of TaSiN and IrO2 thin films by reactive sputtering : optimisation as diffusion barrier to oxygen and electrode


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Informations

  • Détails : 1 vol., [150] f.
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. en fin des chapitres

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université Paris Diderot - Paris 7. Service commun de la documentation. Bibliothèque Universitaire des Grands Moulins.
  • PEB soumis à condition
  • Cote : TS (2003) 067
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