Comparaison de procédés de dépôt de couches minces semiconductrices à partir de précurseurs organométalliques : cas des réacteurs à flux alternes en phase vapeur (ALCVD) et réacteur plasma diode hors équilibre (PACVD)

par Frédérique Donsanti

Thèse de doctorat en Sciences

Sous la direction de Farzaneh Arefi-Khonsari.

Soutenue en 2003

à Paris 6 .

  • Titre traduit

    Comparative study of deposition process of semiconductor thin films from metalorganic precursors : aLCVD reactor and PACVD reactor


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  • Détails : 1 vol., [XII] -326 p.
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