Comparaison de procédés de dépôt de couches minces semiconductrices à partir de précurseurs organométalliques : cas des réacteurs à flux alternes en phase vapeur (ALCVD) et réacteur plasma diode hors équilibre (PACVD)

par Frédérique Donsanti

Thèse de doctorat en Sciences

Sous la direction de Farzaneh Arefi-Khonsari.

Soutenue en 2003

à Paris 6 .

  • Titre traduit

    Comparative study of deposition process of semiconductor thin films from metalorganic precursors : aLCVD reactor and PACVD reactor


  • Pas de résumé disponible.

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 1 vol., [XII] -326 p.
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. en fin de chapitres

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université Pierre et Marie Curie. Bibliothèque Universitaire Pierre et Marie Curie. Section Biologie-Chimie-Physique Recherche.
  • Consultable sur place dans l'établissement demandeur
  • Cote : T Paris 6 2003 98
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.