Croissance et propriétés de films minces de HfO2 déposés par Atomic layer deposition pour des applications microélectroniques

par Delphine Blin

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de Jean Durand.

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Informations

  • Détails : 237 p.
  • Annexes : Bibliogr. p. 201-207

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  • Bibliothèque : Bibliothèque interuniversitaire. Section Sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : TS 2003.MON-97
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