Depot electrochimique de films magnetiques doux cofecu et comportement en atmosphere oxydante

par CHRISTOPHE DUBARRY

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Alain Galerie.

Soutenue en 2001

à l'INP GRENOBLE .

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  • Résumé

    L'alliage cofecu (co, 10% fe, 5% cu), realise par depot electrochimique en courant continu, montre des proprietes magnetiques interessantes pour les applications (tetes d'enregistrement, micro-transformateur) necessitant un materiau magnetique doux a forte aimantation avec les caracteristiques suivantes : aimantation a saturation : bs = 20kgauss, coercitivite : hc < 1 oe (avant recuit), anisotropie : hk = 14 oe et permeabilite : a 10 mhz = 600. La caracterisation de cet alliage, texture 110 avec des grains relativement fins (15 nm), laisse paraitre une phase co de structure cubique a faces centrees saturee en fer ( 10% de fer) et contenant le cuivre ainsi qu'une phase fe, de structure cubique centree contenant environ 25% de fer. Afin d'ameliorer les conditions de depot de l'alliage cofecu, il nous a semble interessant de comprendre l'effet de l'electrolyte support et le mecanisme de codeposition anormale. Cette etude par micro-gravimetrie couplee nous a aussi permis de calculer les parametres electrocinetiques que sont le coefficient de transfert, la densite de courant d'echange et le rendement afin de pouvoir les integrer dans un outil de simulation nomme elsy. Cette demarche, via un plan d'experiences, permet d'envisager l'optimisation de la cellule pour obtenir le meilleur compromis vitesse de depot/homogeneite. Le comportement de l'alliage cofecu en atmosphere oxydante a ete etudie egalement. Nos resultats experimentaux ont permis d'extrapoler la vitesse de croissance (40 nm/an) de l'oxyde co 3o 4 a la temperature de fonctionnement (50\c). Pour les capteurs magnetiques n'ayant pas de contact direct avec l'air ambiant, cette etude n'a pas d'interet mais pour les tetes d'enregistrement destinees aux bandes magnetiques,

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Informations

  • Détails : 193 p.
  • Annexes : 148 ref.

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