Etude de la realisation de films minces monocristallins de carbure de silicium sur isolant (sicoi) par adaptation du procede improve

par YANNICK LE TIEC

Thèse de doctorat en Sciences appliquées

Sous la direction de Jean-Charles Joud.

Soutenue en 1998

à l'INP GRENOBLE .

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  • Résumé

    Le materiau sic presente des avantages pour realiser des composants electroniques de puissance, fonctionnant en hyperfrequence ou encore pour des dispositifs operant a haute temperature. L'utilisation de ce materiau est limitee par le prix eleve et la faible taille des substrats. Une solution est de reporter un film mince de sic sur un substrat de silicium. Pour cela, nous avons adapte au sic le procede improve developpe pour realiser des structures soi (silicium sur isolant). Les etapes clefs du procede, l'implantation d'ions hydrogene, le collage par adhesion moleculaire de deux oxydes sio#2 et le recuit pour transferer une couche mince, ont ete etudiees et optimisees pour realiser un materiau sic sur isolant (sicoi). Une nouvelle approche concernant la diffusion de l'hydrogene a haute temperature est proposee ; elle prend en compte la co-existence dans le materiau d'especes h#+, h#0 et h#, les sites cristallins preferentiels d'insertion de l'hydrogene ainsi que le role du dopage et du polytype du sic utilise. Par ailleurs, le mecanisme de collage sio#2/sio#2 est precise. Nous avons realise des films minces monocristallins de sic, d'epaisseurs variables, a partir des polytypes sic6h, 4h et 3c sur des supports silicium ou carbure de silicium. Le materiau fini a ete caracterise par des techniques physico-chimiques, optiques et electriques.


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Informations

  • Détails : 210 P.
  • Annexes : 87 REF.

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