Mise au point d'une technologie silice dopée erbium en optique intégrée pour l'amplification vers 1,5 µm

par Yann Le Luyer

Thèse de doctorat en Sciences appliquées

Sous la direction de Bernard Jacquier.

Soutenue en 1997

à l'INP GRENOBLE .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    L'application conjointe des principes de l'amplification optique et de l'optique integree permet la realisation d'amplificateurs plus compacts et susceptibles d'etre associes a d'autres composants optiques sur un meme substrat. Nous decrivons la mise au point d'une technologie en silice dopee erbium sur silicium pour l'amplification vers 1,5 m. Nous detaillons en particulier l'etape de depot de la couche guidante par pulverisation cathodique et l'etape de gravure. Les parametres de depot ont ete optimises pour obtenir des guides planaires homogenes en indice et epaisseur. Ces guides presentent de plus de faibles pertes de propagation. Par ailleurs, l'etude de la gravure de notre materiau nous a permis de determiner la chimie de gravure adequate, conduisant a une amelioration du profil de gravure et a une reduction de la rugosite des guides, source de pertes par diffusion. Les proprietes de luminescence de nos guides ont ete etudiees. Les resultats obtenus demontrent l'interet de notre technologie pour l'amplification. Toutefois, la duree de vie de l'erbium, qui influence directement le gain potentiel, depend largement du procede d'elaboration. Par exemple, l'etape de recouvrement suivie d'un recuit, entraine la diffusion d'hydrogene vers la couche guidante, ce qui degrade la dure de vie. Un gain de plusieurs db a ete mesure. Ce resultat sera largement ameliore par l'optimisation des caracteristiques de l'amplificateur optique integre, telles que la concentration en erbium, la structure du guide ou ses pertes de propagation.


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  • Détails : 1 vol. (141 p.)
  • Annexes : 220 REF.

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