Depot et caracterisation de films minces de silicium sur substrat polymere par la methode cvd assistee par photons lumineux

par OLIVIER GOETZBERGER

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de P. SIFFERT.

Soutenue en 1996

à Strasbourg 1 .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    Le but principal de ce travail a ete d'examiner la possibilite de deposer des films de silicium ainsi que de silice sio2 par la methode appelee photon induced cvd. Notre objectif etait de deposer le silicium et la silice sur un substrat polymere. Nous avons choisi le polyphenilquinoxalin d'une part a cause de sa bonne stabilite thermique jusqu'a des temperatures de l'ordre de 300c et d'autre part pour son caractere non hygroscopique

  • Titre traduit

    Studies of thin films under uv irradiation


  • Pas de résumé disponible.

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 131 P.
  • Annexes : 106 REF.

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université de Strasbourg. Service des bibliothèques. Bibliothèque L'Alinéa.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : Th.Strbg.Sc.1996;2382
  • Bibliothèque : Université de Strasbourg. Service des bibliothèques. Bibliothèque L'Alinéa.
  • Non disponible pour le PEB
  • Cote : H 503.000,1996
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.