Caracterisation de l'interface silicium/acide fluorhydrique : processus electrochimiques sous faible perturbation de potentiel

par Valérie Bertagna

Thèse de doctorat en Chimie

Sous la direction de M. CHEMLA.

Soutenue en 1996

à Paris 6 .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    Les solutions d'acide fluorhydrique dilue sont utilisees pour la dissolution de l'oxyde sio#2 de surface. Afin de cerner le mecanisme de dissolution du silicium monocristallin, nous avons concu une cellule electrochimique autorisant des mesures reproductibles. Cette cellule a permis determination precise des differents facteurs qui conditionnent la vitesse de corrosion du silicium dans cet electrolyte: ces facteurs sont principalement l'eclairage, l'oxygene dissous, et la presence de contaminants metalliques a l'etat de traces. Un modele theorique d'interpretation est presente: il est fonde sur la theorie du transfert electronique des semiconducteurs, et en prenant en compte le fait que deux transferts ont lieu simultanement. D'autres methodes physiques modernes, spectroscopie de fluorescence x en incidence rasante, microscopie a force atomique, indicateurs radioactifs, permettant de confirmer les mecanismes intervenant dans la caracterisation de l'interface


  • Pas de résumé disponible.

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 200 P.
  • Annexes : 123 REF.

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Université Pierre et Marie Curie. Bibliothèque Universitaire Pierre et Marie Curie. Section Biologie-Chimie-Physique Recherche.
  • Accessible pour le PEB
  • Bibliothèque : Centre Technique du Livre de l'Enseignement supérieur (Marne-la-Vallée, Seine-et-Marne).
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : PMC RT P6 1996
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.