Caractérisations de couches minces d'oxynitrures de silicium élaborées par PECVD

par Jocelyn Viard

Thèse de doctorat en Chimie des matériaux

Sous la direction de J. Durand.

Soutenue en 1996

à Montpellier 2 .


  • Résumé

    Realise en collaboration avec la societe essilor, l'objectif de ces travaux etait l'etude des films d'oxynitrures de silicium realises par pecvd, en tant que constituants de couches antireflet sur des substrats de verres polymeres. Les films minces sont elabores a partir de sih#4, n#2o, nh#3. La puissance et la pression restent fixes, seule varie la composition de la phase gazeuse en gardant un debit total constant. Les diverses methodes utilisees (meb, xps-aes, reflectometrie des rayons x rasants, ftir, ellipsometrie, nanoindentation) ont permis de caracteriser ces films du point de vue physicochimique, optique et mecanique. Ils ont des caracteristiques proches de celles de la silice vitreuse pour les compositions de type sio#x:h. Par contre, les couches de type sin#y:h conduisent a une densite, un indice et une nanodurete plus faibles que les valeurs connues de si#3n#4 massif. Les oxynitrures de silicium possedent, quant a eux des caracteristiques intermediaires dont l'evolution n'est pas lineaire avec la composition. Les decompositions des bandes si2p en x. P. S. Et si-h en spectroscopie d'absorption infrarouge, montrent que les oxynitrures de silicium deposes peuvent etre decrits comme un melange homogene des liaisons correspondant mieux au modele des liaisons aleatoires plutot qu'a un melange de phases. D'autre part, la variation de l'indice en fonction du rapport n/(n+o) a ete modelisee, en faisant intervenir la composition et la densite par les relations de bruggeman et de clausius-mossoti. Ces couches ont permis de realiser un revetement antireflet bicouche possedant des caracteristiques proches de celles calculees

  • Titre traduit

    Caracterization of pecvd silicon oxynitrides thin films


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  • Détails : 194 p
  • Annexes : Notes bibliogr

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  • Cote : TS 96.MON-34
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