Etude des couches photosensibles à tonalité positive et développement humide pour la lithographie avancée en UV profonds (248 nm)

par Laurent Pain

Thèse de doctorat en Science et Génie des matériaux

Sous la direction de Patrick Paniez.

Soutenue en 1996

à Grenoble INPG .

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  • Résumé

    L'amelioration des performances des circuits integres necessite la reduction des elements qui les composent. Cette evolution repose sur le developpement de techniques de lithographie avancees telles que celle par ultra violets profond a 248 nm. Parallelement a l'introduction de cette technique, de nouvelles resines photosensibles, transparentes a 248 nm et basees sur le principe de l'amplification chimique ont dues etre mises au point. Ce travail est axe principalement sur la comprehension des mecanismes physico-chimiques mis en jeu au cours du procede lithographique. Il presente tout d'abord les specificites des resines positives photosensibles a 248 nm. Puis il detaille leurs mecanismes de fonctionnement et les problemes qui limitent les capacites de resolution de ces resines. Au cours du procede lithographique, les etapes de recuit jouent un role tres important pour les resines a amplification chimique. En etudiant a la fois des matrices polymeres purs et des resines positives, ce travail de these montre l'interaction qui existe entre les phenomenes physiques lies a la relaxation de la matrice polymere et a la diffusion des composes dans le film de resine et les phenomenes chimiques generes par la reaction de deprotection. Il presente des methodes simples de caracterisation qui ont completees la connaissance mecanistique des resines positives a amplification chimique. Cette comprehension a ainsi permis la definition de criteres facilitant la selection des resines les plus performantes et aussi la determination des conditions optimales de procede

  • Titre traduit

    Study of positive tone photoactive layers with wet development for advanced deep u. V. Lithography (248 nm)


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Informations

  • Détails : 1 vol. (168 p.)
  • Annexes : 107 REF.

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