Etude du dépot chimique de tungstène à partir d'une phase vapeur sur la base d'un nouveau concept de réacteur

par Marc Plissonnier

Thèse de doctorat en Génie des procédés

Sous la direction de Michel Pons.

Soutenue en 1995

à Grenoble INPG .


  • Résumé

    Depuis une quinzaine d'annees, le depot chimique en phase vapeur est etudie pour la metallisation des circuits integres. Neanmoins, les differents equipements industriels disponibles n'ont pas donne une entiere satisfaction car aucun d'entre eux n'est parvenu a eviter un depot de tungstene parasite sur la face arriere du substrat et sur le dispositif de chauffage. Pour resoudre ce probleme, le l. E. T. I a developpe un nouveau concept de reacteur. L'objet de cette etude porte sur la mise au point de ce reacteur prototype afin d'obtenir un depot de tungstene sur un substrat de silicium conforme aux exigences de l'industrie micro-electronique. Les transferts thermiques intervenant entre le dispositif de chauffage et le substrat ont ete etudies en fonction des conditions experimentales. La modelisation des phenomenes de transport a apporte des renseignements sur le comportement de la phase gazeuse au sein du reacteur. Apres une breve presentation du procede c. V. D, le reacteur ainsi que la procedure experimentale sont decrites. L'etude des transferts thermiques realisee a l'aide de modeles thermiques et de mesures experimentales a permis d'evaluer l'influence des differents echanges thermiques dans le reacteur et de proposer des conditions experimentales susceptibles de minimiser l'ecart de temperature existant entre la chaufferette et le substrat. L'uniformite de la temperature sur la surface du substrat a pu etre optimisee. Enfin, la simulation des phenomenes de transport a permis d'etudier le comportement de la phase gazeuse et d'expliquer son influence sur des caracteristiques telles que la vitesse de depot et son uniformite sur la surface du substrat et le taux de conversion pour deux modeles de reactivite (regime cinetique et diffusionnel). La geometrie du reacteur et les parametres experimentaux du procede de depot ont ete optimises a l'aide de la modelisation afin d'obtenir des specifications correspondant aux exigences de l'industrie micro-electronique pour les trois caracteristiques enoncees precedemment. Nos resultats demontrent la potentialite du reacteur prototype c. V. D dans le but d'une industrialisation du depot de tungstene

  • Titre traduit

    Study of chemical vapour deposition of tungsten with a new concept of reactor


  • Pas de résumé disponible.

Consulter en bibliothèque

La version de soutenance existe sous forme papier

Informations

  • Détails : 1 vol. (232 p.)
  • Annexes : 97 REF.

Où se trouve cette thèse ?

  • Bibliothèque : Service interétablissements de Documentation (Saint-Martin d'Hères, Isère). Bibliothèque universitaire de Sciences.
  • Accessible pour le PEB
Voir dans le Sudoc, catalogue collectif des bibliothèques de l'enseignement supérieur et de la recherche.