Etude de l'adaptation des paramètres cristallins de NiSi et Si par substitution du nickel

par Dominique Mangelinck

Thèse de doctorat en Sciences des matériaux

Sous la direction de Bernard Pichaud.

Soutenue en 1995

à Aix-Marseille 3 .


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  • Résumé

    Nous nous sommes interesses a l'evolution de la maille de nisi#2 epitaxiee sur le silicium par addition d'elements metalliques en faibles quantites: le cobalt, le platine ou l'or. Nous avons compare la formation et la microstructure des disiliciures contenant l'un de ces elements a celle du disiliciure non allie. L'incorporation des elements ainsi que les caracteristiques du film de nisi#2 dependent fortement de la metallurgie des systemes nickel/metal allie/silicium. Les differences les plus importantes sont observees pour l'addition d'or. Des mesures des parametres de maille (perpendiculaires et paralleles) par diffraction x ont permis de caracteriser l'etat de relaxation et l'evolution de la maille des films de nisi#2. L'addition de platine ne modifie pas la maille car l'incorporation de platine dans nisi#2 est tres faible. Le modele d'interface rigide est bien approprie pour les films de nisi#2, ni(au)si#2 et ni(co)si#2. En accord avec ce modele et malgre une deformation rhomboedrale importante, le systeme qui s'adapte le mieux au silicium est ni(co)si#2: dans ce cas, l'ecart entre les parametres du film et du substrat est pratiquement nul. Nous avons aussi montre que les parametres du film et du substrat est pratiquement nul. Nous avons aussi montre que les dislocations de desaccord doivent se former principalement lors de la formation de nisi#2 et que leur densite evolue tres peu par la suite

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Informations

  • Détails : 199 p.

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  • Bibliothèque : Université d'Aix-Marseille (Marseille. Saint-Jérôme). Service commun de la documentation. Bibliothèque de sciences.
  • Disponible pour le PEB
  • Cote : T 2250/A-B
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