Effet raman renforce de surface : optimisation et application a l'etude in-situ de depots de silicium par cvd

par NATHALIE PRIMEAU

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de R. REINISCH.

Soutenue en 1994

à l'INP GRENOBLE .

    mots clés mots clés


  • Résumé

    Nous presentons les resultats d'experiences d'effet raman renforce par plasmons de surface en configurations kretschmann et reseau. On observe que les deux configurations donnent lieu a un phenomene d'optimisation pour lequel le signal raman provenant d'une couche test de cupc de 40a d'epaisseur est maximum. En configuration kretschmann, l'intensite raman detectee est maximum pour une epaisseur d'ag qui se situe entre les epaisseurs optimum de couplage du faisceau de pompe et de la lumiere stokes aux plasmons de surface. En configuration reseau, l'intensite raman detectee est maximum pour une certaine profondeur de modulation. Pour cette profondeur optimum, un regime stimule est observe avec 40 mw de pompe d'un laser continu. De plus, les resultats de divers travaux realises en vue de determiner la faisabilite de l'application de l'effet raman renforce par plasmons de surface a l'etude in-situ de la cvd de si sont presentes. On montre que pour des temperatures de chauffage superieures a 300c, il y a apparition de rugosites importantes qui ont pour effet de rendre la surface d'ag impropre a la propagation de plasmons


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Informations

  • Détails : 128 P.
  • Annexes : 64 REF.

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