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		http://www.theses.fr/1994INPG0028
TI  - Procédé de dépot sélectif par CVD pour la microélectronique silicium : applications au tungstène et au disiliciure de titane
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N1  - Thèse de doctorat Génie des procédés Grenoble INPG 1994
N1  - 1994INPG0028
ER  -